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美国NXQ紫外掩膜光刻机
产品概述：
NXQ MASK ALIGNER光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，NXQ4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，稳定的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用。
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二、美国NXQ紫外掩膜光刻机技术参数：
1、芯片尺寸：5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的特殊卡盘设计）；
2、曝光波长：350nm-450nm（其它波长可选配）；
3、汞灯功率：350W/500W（其它功率可选配）；
4、分辨率：优于0.5um；
5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；
6、出射光强范围：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；
7、支持恒定光强或恒定功率模式；
8、曝光时间：0.1~999.9s；
9、对准精度：双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器，对准精度可达到0.4微米内；
10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)；
11、光强均匀性Uniformity：
<±1% over 2" 区域；
<±2% over 4" 区域；
<±3% over 6" 区域；
12、双面光刻：具备背面红外对准（IR BSA）和光学背面对准（OBS BSA），双面对准精度≤2μm；
13、电源：高灵敏度光强可控电源。
14、可选型号：
NXQ400-6 、NXQ400-8、NXQ800-6、NXQ8006 Sapphire、NXQ800-8 。
https://www.chem17.com/st504055/erlist_2335187.html
http://www.whyueyi.com/Products-36741781.html
美国NXQ紫外掩膜光刻机